Special issue on Plasma Processes

被引：0

作者：

Alves, L. L. ^{[1
]}

Segui, Y. ^{[2
]}

机构：

[1] IPFN, IST, Lisbon, Portugal

[2] LAPLACE, Toulouse, France

来源：

EUROPEAN PHYSICAL JOURNAL-APPLIED PHYSICS | 2011年 / 56卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1051/epjap/2011110375

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页数：1

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