Thin film contamination effects on laser-induced damage of fused silica surfaces at 355 nm

被引：0

作者：

Fornier, A ^{[1
]}

Cordillot, C ^{[1
]}

Schirman, D ^{[1
]}

Genin, FY ^{[1
]}

Burnham, A ^{[1
]}

Whitman, P ^{[1
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Feit, MD ^{[1
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Rubenchick, AM ^{[1
]}

Yoshiyama, J ^{[1
]}

机构：

[1] CEA, Ctr Etud Limeil Valenton, F-94195 Villeneuve St Georges, France

来源：

LASER-INDUCED DAMAGE IN OPTICAL MATERIALS: 1997, PROCEEDINGS | 1998年 / 3244卷

关键词：

laser-induced damage; contamination; cleanliness; target chamber; surface morphology; fused silica; 355; nm;

D O I：

10.1117/12.307038

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

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