Initial plasma oxidation of silicon studied by real-time ellipsometry

被引：0

作者：

Kitajima, M ^{[1
]}

Kamioka, I ^{[1
]}

Kurashina, T ^{[1
]}

Nakamura, KG ^{[1
]}

机构：

[1] NATL RES INST MET,TSUKUBA,IBARAKI 305,JAPAN

来源：

INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON POLARIZATION ANALYSIS AND APPLICATIONS TO DEVICE TECHNOLOGY | 1996年 / 2873卷

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

TH7 [仪器、仪表];

学科分类号：

0804 ; 080401 ; 081102 ;

摘要：

引用

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页数：4