Technology scaling trends and accelerated testing for soft errors in commercial silicon devices

被引：15

作者：

Baumann, R ^{[1
]}

机构：

[1] Texas Instruments Inc, Dallas, TX 75265 USA

来源：

9TH IEEE INTERNATIONAL ON-LINE TESTING SYMPOSIUM, PROCEEDINGS | 2003年

关键词：

D O I：

10.1109/OLT.2003.1214358

中图分类号：

TP3 [计算技术、计算机技术];

学科分类号：

0812 ;

摘要：

引用

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