Rapid thermal oxidation of silicon in mixtures of oxygen and nitrous oxide

被引：1

作者：

Grant, JM ^{[1
]}

Karim, Z ^{[1
]}

机构：

[1] SHARP MICROELECT TECHNOL INC,CAMAS,WA 98607

来源：

RAPID THERMAL AND INTEGRATED PROCESSING V | 1996年 / 429卷

关键词：

D O I：

10.1557/PROC-429-257

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

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页码：257 / 262

页数：6

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