Excimer laser crystallization of hydrogenated amorphous

被引：0

作者：

Dai, YB ^{[1
]}

Xu, ZY ^{[1
]}

Wang, CG ^{[1
]}

Zhang, SQ ^{[1
]}

An, CW ^{[1
]}

Li, XJ ^{[1
]}

Wan, XB ^{[1
]}

Ding, H ^{[1
]}

机构：

[1] HUAZHONG UNIV SCI & TECHNOL,DEPT SOLID STATE ELECT,WUHAN 430074,PEOPLES R CHINA

来源：

LASER PROCESSING OF MATERIALS AND INDUSTRIAL APPLICATIONS | 1996年 / 2888卷

关键词：

excimer laser crystallization; laser irradiation; crystallized films; a-Si:H; p-Si; p-Si thin film transistors;

D O I：

10.1117/12.253126

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

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页数：7