Ultra-thin hafnium oxide atomic layer deposition on chemically prefunctionalized silicon

被引：0

作者：

Wang, Yu

Chabal, Yves J.

Ho, Ming-T.

Rivillon, Sandrine

Goncharova, Lyudmila V.

Gustafsson, Torgny

Wielunski, Leszek S.

机构：

[1] Rutgers State Univ, Lab Surface Modificat, Nanophys Lab 207, Piscataway, NJ 08854 USA

[2] Rutgers State Univ, Dept Chem & Chem Biol, Piscataway, NJ 08854 USA

[3] Rutgers State Univ, Dept Phys & Astron, Piscataway, NJ 08854 USA

[4] Rutgers State Univ, Dept Phys, Piscataway, NJ 08854 USA

来源：

ABSTRACTS OF PAPERS OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY | 2006年 / 231卷

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O6 [化学];

学科分类号：

0703 ;

摘要：

136-COLL

引用

页数：2