Multi-parameter CD measurements using scatterometry

被引：9

作者：

Raymond, CJ ^{[1
]}

Murnane, MR ^{[1
]}

Prins, SL ^{[1
]}

Naqvi, SH ^{[1
]}

McNeil, JR ^{[1
]}

Hosch, JW ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV NEW MEXICO,CTR HIGH TECHNOL MAT,ALBUQUERQUE,NM 87131

来源：

METROLOGY, INSPECTION, AND PROCESS CONTROL FOR MICROLITHOGRAPHY X | 1996年 / 2725卷

关键词：

scatterometry; metrology; diffraction analysis; process;

D O I：

10.1117/12.240121

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

页码：698 / 709

页数：12