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XeCl* laser kinetics
被引：0
作者：
Longo, S
[1
]
机构：
[1] UNIV BARI,DIPARTIMENTO CHIM,CNR,CTR STUDIO CHIM PLASMI,I-70126 BARI,ITALY
来源：
GAS LASERS - RECENT DEVELOPMENTS AND FUTURE PROSPECTS
|
1996年
/
10卷
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
O43 [光学];
学科分类号：
070207 ;
0803 ;
摘要：
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页码：169 / 183
页数：15
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