Wafer flatness modeling for scanning steppers

被引：10

作者：

Goodall, RK ^{[1
]}

机构：

[1] INT 300 MM INITIAT,AUSTIN,TX 78741

来源：

METROLOGY, INSPECTION, AND PROCESS CONTROL FOR MICROLITHOGRAPHY X | 1996年 / 2725卷

关键词：

wafer flatness; site flatness; flatness model; scanning stepper;

D O I：

10.1117/12.240143

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

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