Chemical mechanical polishing of polymeric low-k dielectric films

被引：0

作者：

Patri, UB

Hong, Y

Babu, SV

机构：

[1] Clarkson Univ, Dept Chem Engn, Potsdam, NY 13699 USA

[2] Clarkson Univ, Dept Engn Sci, Potsdam, NY 13699 USA

来源：

ABSTRACTS OF PAPERS OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY | 2005年 / 229卷

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O6 [化学];

学科分类号：

0703 ;

摘要：

58-PMSE

引用

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