Near-field holography manufactures submicron gratings

被引：0

作者：

Cullmann, E ^{[1
]}

机构：

[1] Suss MicroTec AG, Garching, Germany

来源：

关键词：

Coherent laser - Near-field holography - Standing-wave pattern - Submicron gratings;

D O I：

暂无

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

(Edited Abstract)

引用

页码：110 / 112

页数：3