Ion etching of graphite:: Defect initiation by 5-20 eV O+ and Ne+ bombardment

被引：0

作者：

Liu, X

Tzvetkov, T

Qin, XD

Jacobs, DC

Mateljevic, N

Tully, JC

机构：

[1] Univ Notre Dame, Dept Chem & Biochem, Notre Dame, IN 46556 USA

[2] Yale Univ, Dept Chem, New Haven, CT 06520 USA

来源：

ABSTRACTS OF PAPERS OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY | 2005年 / 230卷

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O6 [化学];

学科分类号：

0703 ;

摘要：

208-PHYS

引用

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页数：1