Calibrating the thickness of metal thin films using AFM

被引：0

作者：

Jankovich, Adam

Chai, Minghui

Pavan, Barbara

Michael, Scott

Mellinger, Axel

机构：

[1] Cent Michigan Univ, Dept Chem, Mt Pleasant, MI 48859 USA

[2] Cent Michigan Univ, Dept Phys, Mt Pleasant, MI 48859 USA

来源：

ABSTRACTS OF PAPERS OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY | 2010年 / 239卷

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O6 [化学];

学科分类号：

0703 ;

摘要：

105-ANYL

引用

页数：1