In-situ additive monitoring during copper deposition in acid sulfate electrolyte

被引：0

作者：

Hope, GA ^{[1
]}

Brown, GM ^{[1
]}

机构：

[1] GRIFFITH UNIV,FAC SCI & TECHNOL,NATHAN,QLD 4111,AUSTRALIA

来源：

PROCEEDINGS OF THE FOURTH INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON ELECTROCHEMISTRY IN MINERAL AND METAL PROCESSING | 1996年 / 96卷

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页数：10