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Dusty plasmas: Fundamental aspects and industrial applications
被引：0
作者：
Kroesen, GMW
机构：
来源：
PLASMA PROCESSING OF SEMICONDUCTORS
|
1997年
/
336卷
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号：
0808 ;
0809 ;
摘要：
引用
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页码：515 / 527
页数：13
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