Stresses during silicide formation: A review

被引：31

作者：

dHeurle, FM ^{[1
]}

Thomas, O ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,RES,YORKTOWN HTS,NY 10598

来源：

DIFFUSION AND STRESSES | 1996年 / 129卷

关键词：

silicides; phase growth kinetics; reaction; interdiffusion; nucleation; stress;

D O I：

10.4028/www.scientific.net/DDF.129-130.137

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

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