Femtosecond studies of electron tunneling at metal-dielectric interfaces (vol 205, pg 191, 1996)

被引：19

作者：

Lingle, RL ^{[1
]}

Ge, NH ^{[1
]}

Jordan, RE ^{[1
]}

McNeill, JD ^{[1
]}

Harris, CB ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV CALIF BERKELEY,EO LAWRENCE BERKELEY LAB,DIV CHEM SCI,BERKELEY,CA 94720

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0301-0104(96)00136-X

中图分类号：

O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];

学科分类号：

070304 ; 081704 ;

摘要：

引用

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页数：2