Spin coating and photolithography using liquid and supercritical carbon dioxide.

被引：0

作者：

Hoggan, EN

Kendall, JL

Flowers, D

Carbonell, RG

DeSimone, JM

机构：

[1] N Carolina State Univ, Dept Chem Engn, Raleigh, NC 27606 USA

[2] Univ N Carolina, Dept Chem, Venable & Kenan Labs, Chapel Hill, NC 27599 USA

来源：

ABSTRACTS OF PAPERS OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY | 1999年 / 218卷

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O6 [化学];

学科分类号：

0703 ;

摘要：

52-PMSE

引用

页码：U618 / U618

页数：1