Development of long range order in Diblock copolymer thin films

被引：0

作者：

Dadmun, Mark D.

Fontana, Scott M.

Lowndes, D. H.

机构：

[1] Univ Tennessee, Dept Chem, Knoxville, TN 37916 USA

[2] Oak Ridge Natl Lab, Solid State Div, Oak Ridge, TN 37831 USA

来源：

ABSTRACTS OF PAPERS OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY | 2005年 / 230卷

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O6 [化学];

学科分类号：

0703 ;

摘要：

352-POLY

引用

页码：U4161 / U4162

页数：2