常压等离子体渗氮工艺的研究

被引：5

作者：

秦艳

严立

朱新河

史雅琴

许久军

高玉周

杨毅

机构：

[1] 大连海事大学金属材料工艺所

[2] 大连海事大学金属材料工艺所辽宁大连

[3] 辽宁大连

来源：

基金：

高等学校博士学科点专项科研基金;

关键词：

电介质阻挡放电; 等离子体渗氮;

D O I：

10.13251/j.issn.0254-6051.2002.01.006

中图分类号：

TG156.8 [化学热处理];

学科分类号：

080201 ; 080503 ;

摘要：

利用介质阻挡放电原理 ,在自行研制的设备上进行了常压非平衡等离子体渗氮。研究表明 ,在等离子环境中 ,试样表面能迅速获得很深的渗层和白亮层 ,而电场外试样几乎无渗层。说明电场内气体电离率高 ,活性粒子浓度高。整个工艺过程操作简便 ,是一种很有发展前景的新工艺。

引用

页码：12 / 14

页数：3