氧化锌铝透明导电膜

被引：15

作者：

徐成海

陆峰

谢元华

机构：

[1] 东北大学机械工程与自动化学院

[2] 东北大学机械工程与自动化学院辽宁沈阳

[3] 辽宁沈阳

来源：

真空电子技术 | 2003年 / 06期

关键词：

ZAO膜; 磁控溅射; 光电特性;

D O I：

10.16540/j.cnki.cn11-2485/tn.2003.06.010

中图分类号：

TB43 [薄膜技术];

学科分类号：

0805 ;

摘要：

本文在对ZAO膜与ITO膜性能比较的基础上,综述了ZAO膜的应用前景、国内外研究现状和制备技术,给出了用直流反应磁控溅射法制备ZAO膜的最佳工艺参数和测得的光电性能。

引用

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页码：49 / 54+59

页数：7

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