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用于SiGe材料生长的新型UHV/UV/CVD系统
被引：5
|作者：
刘洪宁
孙建诚
胡辉勇
张鹤鸣
机构：
[1] 西安电子科技大学微电子研究所!陕西西安
来源：
关键词：
硅锗;
超高真空;
紫外光;
化学气相淀积;
D O I：
10.16540/j.cnki.cn11-2485/tn.2000.03.005
中图分类号：
TN305 [半导体器件制造工艺及设备];
学科分类号：
1401 ;
摘要：
介绍了新近研制的用于 Si Ge材料生长的超高真空 ( UHV) /紫外光 ( UV) /能量辅助 CVD工艺系统。
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