微晶Si1-xCx:F:H薄膜X衍射和XPS研究

被引：0

作者：

郑承志

机构：

[1] 南京电子器件研究所

来源：

关键词：

μc-Si1-xCx:F:H薄膜; X衍射; XPS; 两相混合结构; 能带模型;

D O I：

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学科分类号：

摘要：

用PECVD法分解SiH4,CF4,PH3和H2混合气体制备电导性能良好的磷重掺杂微晶Si1-xCx:F:H薄膜;薄膜的X衍射谱表明其结构为非晶-微晶两相混合结构;膜中C的XPS峰表现为F键合C和无F键合C两种信号的叠加;F键合c含量增大时,薄膜电导率迅速下降。文中提出了薄膜结构模型及能带模型。

引用

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