采用溶胶-凝胶法制备nc-Si/SiO2薄膜

被引：3

作者：

王蓟

李剑

邢华

宁永强

王立军

机构：

[1] 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所激发态物理重点实验室

[2] 吉林大学电子科学与工程学院

[3] 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所激发态物理重点实验室吉林长春　

[4] 吉林长春　

来源：

发光学报 | 2003年 / 03期

关键词：

硅基光电子集成; 溶胶凝胶方法; 能谱图;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.1 [薄膜的生长、结构和外延];

学科分类号：

摘要：

溶胶凝胶方法是近年发展起来的一种新型的材料制备技术,被广泛的应用于薄膜、均匀超细粉末和陶瓷涂层的制备中。本文以正硅酸乙酯(TEOS)为原料,在乙醇共溶剂和盐酸催化剂条件下,采用溶胶凝胶方法制备含有纳米晶硅(nc Si)的SiO2胶体溶液,通过旋涂法使溶剂迅速挥发而迅速凝胶化,经过适当温度的干燥和烧结制备了nc Si/SiO2薄膜。探讨了胶体粘度、盐酸催化剂浓度、旋涂速度和时间对成膜质量的影响。给出了nc Si/SiO2薄膜的扫描电镜图像和表征nc Si/SiO2薄膜组分的能谱图。

引用

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