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质子、氚和α在Ar和Kr中的径迹长度测量与计算
被引：6
作者：
张国辉
唐国有
陈金象
施兆民
机构：
[1] 北京大学技术物理系重离子物理研究所
来源：
关键词：
屏栅电离室,径迹长度X,实验测量,理论计算;
D O I：
暂无
中图分类号：
TL811.1,TL815 [];
学科分类号：
082704 ;
摘要：
用屏栅电离室对α、ｔ和ｐ在Ａｒ与Ｋｒ中到达电离密度重心的径迹长度Ｘ进行了测量，并根据Ｔｒｉｍ程序和其它文献的阻止本领数据对其进行了计算。理论值与实验结果符合较好。
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