Zn1-xCuxO薄膜的结构和光学性质

被引：5

作者：

王晓飞 ^{[1
]}

吴雪梅 ^{[1
]}

诸葛兰剑 ^{[2
]}

机构：

[1] 苏州大学物理科学与技术学院

[2] 苏州大学分析测试中心

来源：

功能材料 | 2008年 / 02期

关键词：

射频磁控溅射; Cu掺杂; 氧化锌薄膜; 透射率; 光学带隙;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.4 [薄膜的性质];

学科分类号：

摘要：

采用CS-400型射频磁控溅射仪在Si(111)和石英基底上成功的制备了Zn1-xCuxO薄膜,薄膜的晶体取向和表面形貌用X射线衍射(XRD)仪和扫描电子显微镜(SEM)进行测量。利用紫外-可见光(UV-vis)分光光度计来测量基片为石英的Zn1-xCuxO薄膜的透射光谱。实验表明,采用射频磁控溅射制备的掺Cu氧化锌薄膜具有(002)峰的择优取向。随着Cu掺入量的增加样品成膜质量降低,禁带宽度减小,透射率下降。

引用

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