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吸气溅射装置
被引：1
作者：
蒙如玲
陈桂玉
赵柏儒
郭树权
李林
陈岚峰
机构：
[1] 中国科学院物理研究所
[2] 冶金部有色金属研究院
来源：
关键词：
溅射室;
真空室;
低压室;
溅射靶;
溅射装置;
超高真空;
背景真空度;
基片温度;
D O I：
暂无
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
我们研制了一台吸气溅射装置,使用普通真空系统.文中介绍了吸气溅射原理及装置的结构.并用溅射Nb3Ge的条件,制备了Nb膜,超导转变温度为8.95K.
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页码：268 / 272
页数：5
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