Chemical Vapor Deposition of Thin SnO2 Films Ⅰ.Kinetics of the Process of Preparation of Thin SnO2 Films

被引：0

作者：

姚光辉 ^{[1
]}

韩杰 ^{[1
]}

袁渭康 ^{[1
]}

机构：

[1] 华东化工学院联合化学反应工程研究所技术化学物理室

来源：

关键词：

化学气相淀积; 二氧化锡; 薄膜; 动力学;

D O I：

10.14135/j.cnki.1006-3080.1990.03.001

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

利用化学气相淀积方法,在载玻片上淀积二氧化锡薄膜,研究了过程的动力学特征,考察了不同操作参数对淀积速率的影响。建立了淀积速率与反应气体分压的关系式,并初步提出了淀积过程的反应原理。

引用

页码：245 / 249

页数：5