共 1 条
高饱和磁化强度FeCoN薄膜的制备
被引：4
作者：
王合英
马振伟
姜恩永
何元金
陈宏
马兴坤
机构：
[1] 清华大学现代应用物理系!北京市
[2] 不详
[3] 清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室
[4] 天津大学
[5] 清华大学
来源：
关键词：
FeCoN薄膜;
结构;
磁性;
退火;
D O I：
暂无
中图分类号：
O484 [薄膜物理学];
学科分类号：
080501 ;
1406 ;
摘要：
制备条件对FeCoN薄膜的结构与磁性有重要的影响．选择合适的基片温度和退火方式，可以用溅射方法制备出具有高饱和磁化强度的FeCoN薄膜．
引用
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页码：255 / 260
页数：6
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