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深亚微米SOI工艺的输出结构ESD研究附视频
被引:3
作者
:
高国平
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引用数:
0
h-index:
0
机构:
中国电子科技集团公司第五十八研究所
高国平
黄登华
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机构:
中国电子科技集团公司第五十八研究所
黄登华
机构
:
[1]
中国电子科技集团公司第五十八研究所
来源
:
电子与封装
|
2017年
/ 12期
关键词
:
SOI;
ESD;
输出缓冲器;
D O I
:
10.16257/j.cnki.1681-1070.2017.0149
中图分类号
:
TN386 [场效应器件];
学科分类号
:
0805 ;
080501 ;
080502 ;
080903 ;
摘要
:
SOI(Silicon-On-Insulator)是一种在未来很有竞争优势的工艺技术,但由于其与体硅工艺结构上的不同,给其ESD设计带来了额外的挑战。通过串联的NMOS管来提高输出管的触发电压,以提升输出缓冲器的ESD能力。
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页码:45 / 47
页数:3
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[1]
SOI CMOS技术及其应用[M]. 科学出版社 , 黄如[等]编著, 2005
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