SF6过热产生H2S的激光光谱法快速分析

被引：4
作者：
刘翔
李瑶
马冬莉
胡雪蛟
机构：
[1] 武汉大学水力机械过渡过程教育部重点实验室
来源：
武汉大学学报(工学版) | 2018年 / 51卷 / 08期
关键词：
六氟化硫; 硫化氢; 过热故障; TDLAS技术;
D O I：
10.14188/j.1671-8844.2018-08-012
中图分类号：
O657.38 [激光光谱分析法];
学科分类号：
摘要：
对SF6局部过热模拟设备中分解产生的微量特征组分H2S,采用快速可调谐半导体激光吸收光谱（Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy,简称TDLAS）技术,进行了实时检测.结果表明:SF6开始分解产生H2S的温度可低至文献报道的下限温度350℃以下,且反应几乎是瞬时完成.H2S生成量与加热温度之间并不是简单的递增关系,而是存在一定的温度窗口对应H2S浓度峰值.这些发现可为SF6分解特性研究以及气体绝缘设备故障诊断提供参考.
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页码：740 / 744
页数：5
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