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Sn-2.5Ag-0.7Cu-0.1RE/Cu时效点界面IMC的生长行为
被引:7
作者
:
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韩丽娟
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1
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张柯柯
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河南科技大学材料科学与工程学院
河南科技大学材料科学与工程学院
张柯柯
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王要利
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祝要民
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河南科技大学材料科学与工程学院
河南科技大学材料科学与工程学院
祝要民
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赵国际
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]
机构
:
[1]
河南科技大学材料科学与工程学院
[2]
河南平高电气股份有限公司
来源
:
特种铸造及有色合金
|
2008年
/ 11期
基金
:
河南省杰出青年科学基金;
关键词
:
Sn-2.5Ag-0.7Cu-0.1RE/Cu界面;
金属间化合物;
时效;
激活能;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TG407 [焊接接头的力学性能及其强度计算];
学科分类号
:
080201 ;
080503 ;
摘要
:
采用扫描电镜及X射线衍射等检测手段,研究了Sn-2.5Ag-0.7Cu-0.1RE/Cu在时效过程中界面区金属间化合物(IMC)的形成和生长特点。试验结果表明,钎焊接头在85、125、150℃时效时,在靠近Cu侧形成层状Cu3SnIMC。随时效时间延长,钎焊后形成的波浪状Cu6Sn5IMC转变为较大尺寸的扇贝状,然后再转变为层状。时效过程中钎焊界面Cu6Sn5IMC和Cu3SnIMC的生长厚度均与时效时间的平方根呈线性关系,其生长受扩散机制控制,激活能分别为81.7和92.3kJ/mol。
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相关论文
共 5 条
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Sn-3Ag/Cu接头在钎焊和时效中IMC的生长和晶体取向分析
[J].
程从前
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程从前
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赵杰
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赵杰
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杨朋
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杨朋
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朱凤
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大连理工大学三束材料改性国家重点实验室大连理工大学材料科学与工程学院
朱凤
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材料热处理学报,
2006,
(04)
:82
-86
[2]
Sn-3.5Ag-0.5Cu/Cu界面的显微结构
[J].
王烨
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北京科技大学材料科学与工程学院
王烨
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黄继华
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黄继华
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张建纲
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齐丽华
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机构:
北京科技大学材料科学与工程学院
齐丽华
.
中国有色金属学报,
2006,
(03)
:495
-499
[3]
SnAgCuY钎料高温时效过程的显微组织演化
[J].
郝虎
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北京工业大学材料学院
郝虎
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田君
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北京工业大学材料学院
田君
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史耀武
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史耀武
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雷永平
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北京工业大学材料学院
雷永平
;
夏志东
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北京工业大学材料学院
夏志东
.
电子元件与材料,
2006,
(02)
:52
-54
[4]
电子封装互连无铅钎料及其界面问题研究[D]. 于大全.大连理工大学 2004
[5]
Analysis of ring and plug shear strengths for comparison of lead-free solders
[J].
Foley, JC
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Ames Lab, Ames, IA 50011 USA
Ames Lab, Ames, IA 50011 USA
Foley, JC
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Gickler, A
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Gickler, A
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Leprevost, FH
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Brown, D
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Ames Lab, Ames, IA 50011 USA
Brown, D
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JOURNAL OF ELECTRONIC MATERIALS,
2000,
29
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共 5 条
[1]
Sn-3Ag/Cu接头在钎焊和时效中IMC的生长和晶体取向分析
[J].
程从前
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大连理工大学三束材料改性国家重点实验室大连理工大学材料科学与工程学院
程从前
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赵杰
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杨朋
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朱凤
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大连理工大学三束材料改性国家重点实验室大连理工大学材料科学与工程学院
朱凤
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材料热处理学报,
2006,
(04)
:82
-86
[2]
Sn-3.5Ag-0.5Cu/Cu界面的显微结构
[J].
王烨
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北京科技大学材料科学与工程学院
王烨
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黄继华
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北京科技大学材料科学与工程学院
黄继华
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张建纲
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齐丽华
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北京科技大学材料科学与工程学院
齐丽华
.
中国有色金属学报,
2006,
(03)
:495
-499
[3]
SnAgCuY钎料高温时效过程的显微组织演化
[J].
郝虎
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北京工业大学材料学院
郝虎
;
田君
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北京工业大学材料学院
田君
;
史耀武
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史耀武
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雷永平
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北京工业大学材料学院
雷永平
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夏志东
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机构:
北京工业大学材料学院
夏志东
.
电子元件与材料,
2006,
(02)
:52
-54
[4]
电子封装互连无铅钎料及其界面问题研究[D]. 于大全.大连理工大学 2004
[5]
Analysis of ring and plug shear strengths for comparison of lead-free solders
[J].
Foley, JC
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机构:
Ames Lab, Ames, IA 50011 USA
Ames Lab, Ames, IA 50011 USA
Foley, JC
;
Gickler, A
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Gickler, A
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Leprevost, FH
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Leprevost, FH
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机构:
Ames Lab, Ames, IA 50011 USA
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JOURNAL OF ELECTRONIC MATERIALS,
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