适用于深亚微米NMOSFET ESD效应的非本地传输模型

被引:4
作者
朱志炜
郝跃
张金凤
方建平
刘红侠
机构
[1] 西安电子科技大学微电子学院宽禁带半导体材料与器件教育部重点实验室
关键词
静电放电; 速度过冲; 能量弛豫时间;
D O I
暂无
中图分类号
O472.4 [];
学科分类号
070205 ; 080501 ; 0809 ; 080903 ;
摘要
分析了深亚微米NMOSFET在ESD应力下的非本地传输特性,分析说明了速度过冲效应可以增大漏端电流,改变器件特性.NMOSFET能量弛豫时间与器件中该点的电场、载流子速度和载流子能量密切相关,从而不能再近似为一个常数.利用蒙特卡罗仿真方法得到电子能量弛豫时间和电子高场迁移率与电子能量的关系表达式,并使用上述模型进行了ESD器件仿真,与实验结果的对比显示,使用该能量弛豫时间模型和高场迁移率模型可以得到准确的器件I-V曲线.
引用
收藏
页码:5878 / 5884
页数:7
相关论文
共 2 条
[1]  
用于VLSI模拟的小尺寸MOS器件模型.[M].(奥地利)N.艾罗拉(N.Arora)著;张兴等译;.科学出版社.1999,
[2]  
小尺寸半导体器件的蒙特卡罗模拟.[M].叶良修编著;.科学出版社.1997,