高气压屏栅电离室的调试和58Ni（n,p）反应双微分截面的试测

被引：4

作者：

张雪梅

陈泽民

梁伟

唐国有

张国辉

ＧｌｅｄｅｎｏｖＹｄ

ＫｈｕｕｋｈｅｎｋｈｕｕＧ

ＳｅｄｙｓｈｅｖａＭＶ

机构：

[1] 清华大学!北京１０００８４

[2] 北京大学重离子研究所!北京１００８７１

[3] 俄罗斯联合原子核研究所!Ｄｕｂｎａ，１４１９８０，Ｒｕｓｓｉａ

[4] 俄罗斯联合原子核研究所!Ｄｕｂｎａ，１４

来源：

关键词：

高气压屏栅电离室; （n，p）反应;

D O I：

暂无

中图分类号：

TL811 [气体电离探测技术和仪器];

学科分类号：

摘要：

介绍了高气压屏栅电离室的结构和调试，并对５８Ｎｉ（ｎ，ｐ）试测结果进行了分析，结果证明此电离室和测量方法对（ｎ，ｐ）反应的测量是适用的。目前正用此电离室进行测量（ｎ，ｐ）反应截面的实验．

引用

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