原位法制备PMMA/Sm(TTA)3Phen高透过薄膜转光性能的研究

被引:0
作者
陈杰 [1 ]
陶静 [1 ]
陈佳美 [1 ]
倪亚茹 [1 ]
陆春华 [1 ]
许仲梓 [1 ]
王建昌 [2 ]
机构
[1] 南京工业大学材料科学与工程学院
[2] 航天材料及工艺研究所
关键词
配合物; PMMA; 薄膜; 原位聚合;
D O I
暂无
中图分类号
TQ316.3 [聚合反应过程];
学科分类号
0805 ; 080502 ;
摘要
通过原位聚合制备掺杂Sm(TTA)3Phen的低黏度PMMA溶液,单面载玻片提拉成膜。借助傅立叶红外光谱仪(FT-IR)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UVPC)、荧光光谱仪(PL)对掺杂PMMA复合薄膜进行形貌、结构、光学性能表征。结果表明:Sm(TTA)3Phen配合物在PMMA基材中仍然保持原有八配位结构;当Sm(TTA)3Phen转光粉掺量从1%到10%时,复合薄膜的可见光透过率均大于90%;3%掺量时,发射红光645nm处转光强度骤增为1%掺量的4.2倍,而后增加掺量,转光强度趋于平缓。采用低粘度提拉法成膜可以制备膜厚可控、高可见光透过、强荧光的PMMA转光膜。
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页码:176 / 179+182 +182
页数:5
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