共 2 条
等离子体法制备碳化硅超细粉末研究
被引:7
作者:
戴学刚
郑国梁
荣金龙
王建国
张其雄
机构:
[1] 中国科学院化工冶金研究所!北京
[2] 不详
来源:
关键词:
等离子体;
碳化硅;
超细粉末;
D O I:
暂无
中图分类号:
TF12 [粉末冶金(金属陶瓷工艺)];
学科分类号:
080502 ;
摘要:
本文采用直流电弧等离子体法合成β-SiC超细粉末.产品纯度大于97%,平均粒径范围0.05~0.5μm,产率1km/h.此外,对其工业开发前景作了展望.
引用
收藏
页码:310 / 315
页数:6
相关论文