ECR-PECVD制备Si3N4硬质陶瓷薄膜的研究

被引：0

作者：

陈俊芳

丁振峰

任兆杏

机构：

[1] 华南师范大学量电所

[2] 中科院等离子体物理研究所

来源：

关键词：

ECR－PECVD,Si3N4硬质陶瓷薄膜;

D O I：

暂无

中图分类号：

TQ174.758 [];

学科分类号：

摘要：

采用电子回旋共振等离子体化学气相沉积（ＥＣＲ－ＰＥＣＶＤ）技术制备了Ｓｉ３Ｎ４薄膜。利用显微硬度计测定了Ｓｉ３Ｎ４薄膜的表面微硬度。由摩擦测试机对Ｓｉ３Ｎ４薄膜的摩擦性能进行了测试分析。结果表明，Ｓｉ３Ｎ４薄膜的摩擦系数和单位时间的磨损量较小，该膜具有良好的耐磨性和耐划伤能力。

引用

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