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KMgF3激光晶体研究
被引：0
作者：
张英侠
吴建平
任绍霞
郭持芬
李凤珍
机构：
[1] 电子部第十一究所,电子部第十一究所,北京玻璃研究所,北京玻璃研究所,北京玻璃研究所
来源：
关键词：
激光晶体;
KMgF3;
晶块;
D O I：
10.16553/j.cnki.issn1000-985x.1985.z1.030
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
<正> 在开发过渡金属离子激活的氟化物终端声子激光晶体研究中,近来对 KMgF3逐渐引起重视。KMgF3晶体可以用提拉法和梯度下降法生长。做为激光基质,计划进行下列掺杂研究:Ni2+、V2+、Cu1+、Cu2+、Cr3+和 Ti3+等。考虑到一些离子的蒸气压较高,先用密封石墨坩埚温梯下降法生长 Ni2+∶KMgF3等晶体。采用分步合成法生长 Ni2+∶KMgF3晶体。首先将市售高纯 MgF2经火法氟化处理,经初
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