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Film Formation Technology for Semiconductor Devices
被引：0
作者：
Shibata, Tetsuya
机构：
来源：
Seimitsu Kogaku Kaishi/Journal of the Japan Society for Precision Engineering
|
2025年
/
91卷
/
07期
关键词：
ALD;
batch;
coating;
CVD;
diffusion;
film formation;
plating;
PVD;
semi batch;
single;
D O I：
10.2493/jjspe.91.763
中图分类号：
学科分类号：
摘要：
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页码：763 / 766
页数：3
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