Understanding dose correction for high-resolution 50 kV electron-beam lithography on thick resist layers (vol 16, 100141, 2022)

被引：0

作者：

Astrand, Mattias ^{[1
]}

Frisk, Thomas ^{[1
]}

Ohlin, Hanna ^{[1
]}

Vogt, Ulrich ^{[1
]}

机构：

[1] Albanova Univ Ctr, KTH Royal Inst Technol, Dept Appl Phys Biomed & X Ray Phys, S-10691 Stockholm, Sweden

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/j.mne.2025.100297

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页数：1