Thermodynamic Modeling of the CVD Process in the Ni–Si–C–H System

被引：0

作者：

Shestakov, V.A. ^{[1
]}

Kosinova, M.L. ^{[1
]}

机构：

[1] Nikolaev Institute of Inorganic Chemistry, Siberian Branch, Russian Academy of Sciences, Novosibirsk,630090, Russia

来源：

Russian Journal of Inorganic Chemistry | 2024年

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

Silicon carbide - Thermodynamics

引用