EVALUATION OF P. C. V. D. SILICON NITRIDE AS A THIN FILM ISOLATOR, AS A CROSS OVER DIELECTRIC FILM AND AS A PASSIVATION LAYER.

被引：0

作者：

Allaert, K. ^{[1
]}

Van Calster, A. ^{[1
]}

Maes, H.E. ^{[1
]}

Lesire, P. ^{[1
]}

Loos, H. ^{[1
]}

机构：

[1] Ghent State Univ, Ghent, Belg, Ghent State Univ, Ghent, Belg

来源：

Vide, les Couches Minces | 1985年 / 229期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

2

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