Effect of silicon on the protective character of Cr2O3 scales: Analyses by `in situ' XPS

被引:0
作者
Huntz, A.M. [1 ]
Loudjani, M.K. [1 ]
Severac, C. [1 ]
Haut, C. [1 ]
Ropital, F. [1 ]
机构
[1] Universite Paris XI, Orsay, France
关键词
D O I
暂无
中图分类号
学科分类号
摘要
10
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页码:243 / 250
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