Characterization of silicon oxynitride thin films by infrared reflection absorption spectroscopy

被引：0

作者：

Firon, M. ^{[1
]}

Bonnelle, C. ^{[1
]}

Mayeux, A. ^{[1
]}

机构：

[1] Universite Pierre et Marie Curie, Paris, France

来源：

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films | 1996年 / 14卷 / 04期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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