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Effects of rapid thermal annealing on the formation of shallow p+n junction by implanting BF2+ ions into thin metal films on Si substrate I. thin titanium films
被引：0
作者：
Juang, M.H.
Cheng, H.C.
机构：
来源：
Journal of Applied Physics
|
1992年
/
71卷
/
03期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
学科分类号：
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