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Low-voltage electron-beam lithography with scanning tunneling microscopy in air: a new method for producing structures with high aspect ratios
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作者：
Kragler, K.
Gunther, E.
Leuschner, R.
Falk, G.
von Seggern, H.
Saemann-Ischenko, G.
机构：
来源：
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics Processing and Phenomena
|
1996年
/
14卷
/
02期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
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