Plasma-enhanced growth, composition, and refractive index of silicon oxy-nitride films

被引：0

作者：

机构：

[1] Mattsson, Kent Erik

来源：

Mattsson, Kent Erik | 1600年 / American Inst of Physics, Woodbury, NY, United States卷 / 77期

关键词：

Silicon nitride;

D O I：

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