Phase and surface roughness evolution for as-deposited LPCVD silicon films

被引：0

作者：

Cobianu, C. ^{[1
]}

Plugaru, Rodica ^{[1
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Nastase, Nicoleta ^{[1
]}

Nastase, S. ^{[1
]}

Flueraru, C. ^{[1
]}

Modreanu, M. ^{[1
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Adamczevska, J. ^{[1
]}

Paszkowicz, W. ^{[1
]}

Auleytner, J. ^{[1
]}

Cosmin, P. ^{[1
]}

机构：

[1] Inst of Microtechnology Bucharest, Bucharest, Romania

来源：

Proceedings of the International Semiconductor Conference, CAS | 1999年 / 1卷

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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