Preparation of Cu-O films by sputtering using He gas

被引：0

作者：

Fujii, Takamichi ^{[1
]}

Koyanagi, Tsuyoshi ^{[1
]}

Morofuji, Kouji ^{[1
]}

Kashima, Tetsuya ^{[1
]}

Matsubara, Kakuei ^{[1
]}

机构：

[1] Yamaguchi Univ, Ube, Japan

来源：

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers | 1994年 / 33卷 / 7 B期

关键词：

Copper oxides;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

引用

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